site stats
【中国研制出 22 纳米芯片制造技术】国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中科院光电所研制,光刻分辨力达到 22 纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造 10 纳米级别的芯片。报道称,项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线 , page 400
sign_in_with_google

29179 位用户此时在线

24小时点击排行 Top 10:
  1. 本站自动实时分享网络热点
  2. 24小时实时更新
  3. 所有言论不代表本站态度
  4. 欢迎对信息踊跃评论评分
  5. 评分越高,信息越新,排列越靠前