光刻胶是极紫外光刻机突破3纳米的最大绊脚石，全新材料开发已箭在弦上

发布时间: 2020-03-16 21:50:01

1分

数据加载中

关注推特

收听电报

2

1

0

光刻胶是极紫外光刻机突破3纳米的最大绊脚石，全新材料开发已箭在弦上
大陆资讯
( www.mittrchina.com )

5年前由观摩团提交

Markdown支持

评论加载中...

您可能感兴趣的：更多

1

6

5

5

【中芯国际唯一的极紫外光刻机跳票，国产高端芯片恐被荷兰拖后腿】 ASML 因为出口许可尚未获得荷兰政府的核准和发放，导致关键机台极紫外光刻机（EUV）无法如期交货给中国客户。ASML 是全球唯一可以供应 EUV 光刻机的半导体设备大商，目前台积电与三星都已经导入 EUV 光刻机来实现 7nm 工艺芯片的量产。
大陆资讯
( mp.weixin.qq.com)

5年前 • 微信公众号 • -- 点击 0 评论

2

6

5

5

5月22日，科技部部长王志刚会见了来华访问的荷兰阿斯麦（ASML）公司总裁兼首席执行官温彼得一行。双方就促进在共同感兴趣领域的合作交换了意见。ASML是光刻机行业的领军企业，光刻机更是半导体制造领域的核心设备之一，目前ASML是全球最先进的极紫外光刻机（EUV）的唯一供应商。
大陆资讯
( www.donews.com)

6年前 • 猪莉夜 • -- 点击 0 评论

3

2

1

1

【这家日企深耕半导体感光材料】半导体最尖端电路线宽为5纳米，比新冠病毒还细，不能混入丝毫杂质。东洋合成生产支持最尖端半导体微细化技术“EUV（极紫外光刻）”的感光材料，是少数能达到实用水平的厂商之一，占全球份额5成以上………
推特中文圈
( twitter.com)

4年前 • twitter机器人 • -- 点击 0 评论

4

2

1

1

【这家日企深耕半导体感光材料】半导体最尖端电路线宽为5纳米，比新冠病毒还细，不能混入丝毫杂质。东洋合成生产支持最尖端半导体微细化技术“EUV（极紫外光刻）”的感光材料，是少数能达到实用水平的厂商之一，占全球份额5成以上………
推特中文圈
( twitter.com)

4年前 • twitter机器人 • -- 点击 0 评论

5

2

1

1

光刻机大败局
大陆资讯
( mp.weixin.qq.com)

5年前 • 微信公众号 • -- 点击 0 评论

6

2

1

1

【ASML与中芯国际延长合同继续提供光刻设备】ASML在2018年与中芯国际达成“深紫外线（DUV）”光刻设备出口协议，合同截至2020年底，最近就延长至2021年底达成协议。DUV光刻设备的属于老式设备，并未成为美国的限制对象…
推特中文圈
( twitter.com)

4年前 • twitter机器人 • -- 点击 0 评论

7

2

1

1

从未存在的“7nm”光刻机
大陆资讯
( www.techweb.com.cn)

5年前 • rabbit • -- 点击 0 评论

8

6

5

5

【绊脚石计划：7万块石头组成的大屠杀纪念碑】刻有 #大屠杀受害者名字的“绊脚石”纪念碑并不会真的害你摔倒，但你若是被绊了一下，就必须停下脚低头来看，心怀敬畏。

大陆资讯
( bbc.in)

6年前 • bbcChinese • -- 点击 0 评论

9

2

1

1

【佳能推出适合高功能半导体的光刻机】在半导体光刻机领域，ASML和佳能、尼康3家企业占据全球9成以上份额。佳能改进了面向小型基板的光刻机，更新了测量晶圆位置的构件和软件，使生产效率提升约17%………
推特中文圈
( twitter.com)

4年前 • twitter机器人 • -- 点击 0 评论

0.08196 Second , Gzip Enable.本网所有言论均来自网络，不代表本网站立场。联系方式: [email protected]

©2012.11.21 bad.news All rights reserved. 社区自动运营第 -- 年零 -- 天
This site is protected by reCAPTCHA and the Google Privacy Policy and Terms of Service apply.

关注推特