韩联社报道,据韩国检方5月7日消息,一名前SK海力士中国法人员工因涉嫌非法泄露半导体核心技术,被以违反《产业技术保护法》等罪名,在被拘留状态下正式起诉。 首尔中央地方检察厅信息技术犯罪调查部表示,该嫌疑人金某(50多岁)于2022年间,非法窃取并泄露了SK海力士的先进半导体技术及与营业相关的商业机密。
调查显示,金某在接到中国华为旗下子公司“海思半导体”(HiSilicon)的跳槽邀请后,为获得职位擅自打印公司内部文档,并偷拍了逾1万张含有机密资料的照片,严重违反公司信息安全规定。
此案引发韩国社会对高新技术流失问题的高度关注,检方也强调将严厉打击跨国技术泄密行为,以维护国家核心产业安全。
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