又抓中国小偷！
韩国晶片巨头SK海力士的一名中国籍女员工A某，向中国华为公司泄露降低晶片不良率的核心技术资料被捕，目前正在接受审讯。
A，一名30岁的中国籍女员工，曾在韩国SK海力士的工厂工作，负责分析导致半导体失败的设计缺陷。在2020年，她转到SK海力士的中国子公司，负责客户关系，直到2022年6月返回韩国。然而，在离开SK海力士之前，她据称打印了3000多页关于半导体制造关键问题解决方案的机密文件。这违反了SK海力士严格的数据安全协议，禁止使用可移动存储设备，并严格监控打印活动。
据称，这起盗窃事件发生在华为正在加倍努力提升其半导体能力，并得到中国政府的支持的时候。2022年，华为从中国政府获得9.48亿美元的资金支持，用于在半导体领域的发展。
A的逮捕和审判凸显了韩国企业在保护先进技术免受盗窃和未经授权转移到中国竞争对手手中的挑战。这起案件尤其敏感，因为半导体技术对于国家安全和经济竞争力具有重要意义。
韩国政府对此事的回应是将关键技术外流的最高刑期从9年增加到12年。这反映了对关键技术盗窃的日益关注，以及未来需要采取措施阻止此类活动的必要性。
